L’un des moyens de résister à cette pression sur les prix est de réduire considérablement la consommation d’azote et l’énergie nécessaire à sa production. L’azote est le fluide le plus fréquemment utilisé dans le processus de fabrication des semiconducteurs. Dans les grandes usines de semiconducteurs, la consommation d’azote peut atteindre 50 000 m3/h. Entre autres, l’azote est utilisé pour rincer les FOUPs afin de créer un environnement contrôlé et non contaminé pour les wafers qui sont transportés d’une machine à l’autre pour être traités.
Une analyse minutieuse des zones où l’azote est utilisé dans l’usine et une minimisation ciblée de la consommation peuvent permettre de réaliser des économies considérables en peu de temps. Le rinçage des FOUP offre justement de nombreuses possibilités d’utiliser efficacement l’azote grâce à un dosage actif en boucle de régulation fermée. Par rapport aux vannes conventionnelles, les soupapes de vidange piézoélectriques effectuent des dosages très précis tout en consommant extrêmement peu d’énergie. Des systèmes appropriés permettent de réduire de manière significative la consommation d’azote d’une grande usine ainsi que la consommation d’énergie et les émissions de CO2 qui y sont liées.
