Pórtico em H tipo EXCH

Grande espaço de trabalho, alta velocidade, transporte suave

Durante a produção de células solares, frequentemente os delicados wafers precisam ser pegos e movimentados com rapidez e precisão. O pórtico em H de alta velocidade oferece a solução ideal para a manipulação de wafers solares.

Desenvolvido para a manipulação de wafers e células solares, o pórtico em H de alta velocidade ocupa um espaço de trabalho retangular com até graus de flexibilidade. A garra de Bernoulli é perfeita para o transporte suave e praticamente sem contato dos delicados wafers.

Pórtico em H tipo EXCH

Manipulação cartesiana de alta velocidade com funcionalidades robóticas

Respostas dinâmicas com até 100 separações/min

Compacto e plano: excelente proporção entre espaço de instalação e de trabalho

  • Baixa vibração: estrutura sofre menos exigências
  • Pode ser ampliado com um eixo Z ou rotary/lifting module para aplicações 3D
  • Sistema completo pronto para ser instalado, totalmente montado e cabeado
  • Opcional: sistema de controladores CMCA (em um painel de comando ou em uma placa de montagem)
 

Site sobre soluções mecatrônicas de movimento

Festo Mechatronic Motion Solutions microsite

Informações, animações e filmes sobre soluções no site

MMS microsite

 

Dados técnicos

Tamanho EXCH-40 EXCH-60
Curso X [mm]

500, 750, 1.000, 1.500

200 ... 2.000

750, 1.000, 1.500, 2.000

200 ... 2.500

Curso Y [mm]

400, 500, 750, 1.000

200 ... 1.000

500, 750, 1.000, 1.250, 1.500

500 ... 1.500

Carga nominal para máx. resposta dinâmica [kg] 4 6
Posição de instalação Horizontal ou vertical
Precisão de repetição [mm] ±0,1

Velocidade máx. [m/s]

Horizontal

Vertical

 

5

4

 

5

3

Máx. aceleração [m/s]

Horizontal

Vertical

 

50

30

 

50

30