Los procesos de alto vacío son la base de muchos pasos críticos en la producción de chips y semiconductores. En entornos altamente sensibles, en los que incluso las partículas más pequeñas pueden alterar los procesos o dañar los componentes, son esenciales la máxima precisión, pureza y repetibilidad. Festo ofrece soluciones de automatización que se adaptan exactamente a estos requisitos: tecnológicamente punteras, fiables y compatibles con las salas blancas.
Las aplicaciones típicas en alto vacío incluyen procesos como la deposición, el grabado o la implantación iónica. Suelen tener lugar en márgenes de presión entre 10-⁶ y 10-⁸ mbar y plantean las máximas exigencias en cuanto a resistencia del material, control de la temperatura, velocidad y precisión de repetición del control del gas de proceso. Con componentes innovadores y soluciones de sistema, Festo ayuda a sus clientes a garantizar la calidad de sus procesos, minimizar los tiempos de parada y alcanzar el máximo rendimiento. Ya se trate de válvulas de gas de temperatura estable, manipulación de obleas con bajo contenido de partículas o actuadores de bajo consumo, suministramos soluciones que pueden integrarse perfectamente en los sistemas existentes y, al mismo tiempo, ofrecen margen para un mayor desarrollo tecnológico.