節流孔是最簡單的氮氣流量控制方式。 節流孔是氣管系統中的機械錐體(固定孔),一定量的氮氣以恆定壓力流經這些錐體。 優點:總成本極低,通常低於 90 歐元,包括組裝件以及一個簡單的開關閥和節流孔本身。 歸功於此,節流孔非常適合條件穩定的氮氣流量調控簡單應用使用。
在這方面,經常使用的產品是 MH1閥。 這是一款物美價廉的標準閥,與節流孔組合使用,可為調控工業氣體流提供功能強大的類比解決方案。 此組合可滿足諸多應用的需求,投資較低或不需要數位反饋的應用尤其適合選擇這一解決方案。
但有明顯弊端:
此外,需要注意的是,如果您以後仍想記錄測量值,則需要額外的硬體工作(例如單獨的壓力或流量感測器以及控制器上的必要輸入),這會增加成本和系統複雜性。 雖然這種閥門的使用壽命很長,可靠性也很高,但其結構決定 MH1等簡單的開關閥並不是對純度要求嚴格的製程的合適選擇,因為與專用的質量流量控制器相比,這類閥門顆粒排放程度較高。
儘管如此,仍有許多生產線使用這種解決方案 — 尤其是在只需保持簡單的體積流量恆定,並有合適的過濾器重新吸收顆粒的情況下。 然而,一旦需要進行動態調整、可靠監控或過程追蹤,這種解決方案很快就會到達極限。
VEFC、VEMD、VEAD 等質量流量控制器可以提供固定節流孔和可調式節流閥無法提供的氮氣流量控制方法:
這些設備本身並不具備自主偵測異常等「智慧」特性,但支援 AI。 結合過濾器監控、壓力感測器和演算法,可以偵測過濾器的污染程度,從而能夠在不中斷生產的情況下及時進行維護。
在選定特定的閥之前,必須先仔細瞭解技術要求和應用環境。 畢竟在流量、規格和連接性方面,不同的閥優勢各有不同。
雖然簡單系統的購置成本更低,但搭載監控功能的可靠調壓閥卻具有決定性優勢:
範例:在具有 50 個控制閥的系統中,每個設備上的簡單顯示可以幫助快速識別故障點,無需讀取數字。
先進的質量流量控制器可以提供寶貴的資料,例如流量、壓力、溫度等,這些資料可以整合到 Festo AX 等上級系統中。 因此,下列功能成為可能:
這些設備本身並不「智慧」,但支援 AI,也為適合未來的資料支援型製程奠定基礎。
選擇閥時,需要考慮多種因素:
未來我們將使用互動工具進行個別化推薦,從簡單的節流孔到支援 AI 的 VEFC,透過有針對性地詢問為您推薦最合適的解決方案。
半導體製造中的氮氣調控遠不止是技術小問題這麼簡單,這對品質、製程穩定性和成本都有影響。 無論您需要簡單的解決方案還是最先進的控制技術,重要的是您的應用程式需要什麼。 做出正確的選擇,不僅能確保安全運作,也可提高效率和未來競爭力。