創新自動化解決方案展示

Gate Valve 門閥開關控制方案

應用領域：

半導體或光電產業之鍍膜的生產線過渡腔室 (load-lock chamber) / 移載系統 (handling system) / 製程腔體 (process chamber)。

應用亮點：

• 大幅降低門閥開關時所產生的衝擊力
• 應用程式在單一元件中達成多門閥的控制
• 藉由數位參數集達成高重複精度
• 易於追踪，非常適用於工業物聯網

Lift Pin Control 晶圓頂針升降控制方案

應用領域：

針對半導體設備中，用於控制 Lift Pin 的波紋管氣缸。

應用亮點：

• 實現氣動技術在運作的時間、速度、精度的精確控制與監測
• 達到 wafer 平穩、同步的上下運行，行程時間更穩定，減少機器意外停機
• 將 Lift Pin 調整標準化，取代以往的手動調整，節省維修時間

氣缸同步控制方案

應用領域：

半導體晶圓濕式清洗製程。

應用亮點：

• 採用 2 路客製化壓電閥 VEAC 精確控制 2 個低摩擦氣缸同步運動，實現大尺寸晶圓清洗防護裝置升降過程中速度與位置連續可調
• 以具有防護功能的電缸，為清洗噴嘴提供擺動和平動進給

N2 Purge 吹淨系統

應用領域：

適用於 STOCKER、FOUP、OHT 和 STB 等各種晶圓輸送和儲存場合等需要微污染防治 (AMC Free) 的半導體晶片先進製程。

應用亮點：

• 可透過流量控制與濕度檢測進行精密的溼度控制
• 壓電閥設計達到精準的流量控制，每分鐘高達 200 公升
• 簡化工程設計、調試和操作，整合化模組設計，即裝即用的解決方案
• 可將多片 MFC 整合成閥島進行設置