半導體產業的自動化

精準與高效,實現最佳生產產能

採用卓越的自動化解決方案完善您的半導體生產製程,在實現穩定製程和超高精度的同時,盡可能降低空間需求。 作為晶片與半導體產業的優秀合作夥伴,Festo 對企業面臨的各項挑戰瞭若指掌。我們為將您提供創新的標準元件和客製化解決方案,完美融入您的製程與系統。在顆粒產生和排氣等領域,Festo 能夠提供符合相關業界標準的解決方案。

Festo 自動化解決方案不但品質卓越,而且能夠客製化;選擇 Festo 解決方案,表示從前段製程到後段封裝,再到混合鍵合等先進封裝,都能採用富有競爭力的創新技術。 這些技術能夠有效降低污染風險,確保設備穩定可靠運行,從而長期維持良率。歸功於其結構設計,您還能有效降低能源成本並減少生態足跡。

用於半導體製造的 Festo 解決方案

Gate Valve 門閥開關控制方案

應用領域:

半導體或光電產業之鍍膜的生產線過渡腔室 (load-lock chamber) / 移載系統 (handling system) / 製程腔體 (process chamber)

應用亮點:

  • 大幅降低門閥開關時所產生的衝擊力
  • 應用程式在單一元件中達成多門閥的控制
  • 藉由數位參數集達成高重複精度
  • 易於追蹤,非常適用於工業物聯網

訂製方案:

半導體行業 EFEM 晶圓傳送設備內,數字控制終端系統對 FOUP 載具填充惰性氣體的應用解決方案,能顯著有效降低閥門開關時產生的污染微粒。

N2 Purge 氮氣吹掃系統

應用領域:

適用於 STOCKER、FOUP、OHT和STB等各種晶圓輸送和儲存場合等需要微污染防治 (AMC Free) 的半導體晶片先進製程。

應用亮點:

  • 可透過流量控制與濕度檢測進行精密的溼度控制
  • 壓電閥設計達到精準的流量控制,每分鐘高達 200 公升
  • 簡化工程設計、調試和操作,整合化模組設計,即裝即用的解決方案
  • 可將多片 MFC 整合成閥島進行設置

訂製方案:

  • Festo 的氣體控制應用解決方案,可以降低晶圓氧化及保持乾燥狀態穩定 FOUP 內環境。
  • N2 Purge 吹淨系統中,通過各類感測器和流量控制器進行配合,並藉由壓電閥精準的比例式控制,達到準確的流量控制,且透過通訊實現數據蒐集與傳輸。
  • 此外,運用 Festo 數字控制終端的數位化氣動技術,除了可精準控制風刀在吹掃時的壓力/流量外,整合的智慧感測器可用於控制、診斷和自學任務,使得參數組合達到最佳配合。

Lift Pin Control 晶圓頂針升降控制方案

應用領域:

針對半導體設備中,用於控制 Lift Pin 的波紋管氣缸。

應用亮點:

實現氣動技術在運行的時間、速度、精度的精準控制與監測,並且達到 wafer 平穩、同步的上下運行,行程時間更穩定,減少機器意外停機。將 Lift Pin 調整標準化,取代以往的盲目調整,節省維修時間。

訂製方案:

  • 閉迴路方案:透過 VTEM 實現高階的氣動控制技術,包括時間、加減速度、及同步運行
  • 開迴路方案:使用 Festo 客製化解決方案,原有設備的軟硬體無須改動,即能實現無縫升級
  • 藉由壓電閥進行精確控制以縮短 Tack Time,提高生產率

Cylinder synchronization control 氣缸同步控制方案

特殊氣體供應和化學打磨氣體控制單元

應用領域:

半導體特殊氣體供應和化學打磨氣體控制單元,都是應用於半導體前段過程。

應用亮點:

無需動力源,仍能切斷氣體鋼瓶的氣體供應;採用特殊的或閥設計,使系統控制不中斷;熱插拔功能,無需關閉氣源即可更換電磁閥。

訂製方案:

  • 採用手動閥和邏輯閥訂製,具有多路控制的手動安全迴路,同時結構更加緊湊。
  • 特殊設計的手動蓄能氣體鋼瓶開關系統,既保留手動操作方式,又能在沒有任何動力源的條件下自主關閉氣體鋼瓶。
  • 簡易的訂製化氣缸驅動的紅色指示器,節約空間的同時保障操作安全。

我們提供能讓您的流程持續穩定且可重複的解決方案

Festo 自動化解決方案致力於為半導體產業實現穩定產量和高經濟效益。 我們的解決方案元件設計巧妙,具有極強的適應性和可擴展性。 您可以隨時根據不斷變化的生產需求,輕鬆、快速做出因應。

Festo 自動化解決方案具有下列優勢:

  • 高精度控制介質的運動、壓力和流量
  • 採用潔淨設計,確保必要的潔淨度與微粒排放控制
  • 節省空間,適合狹小的安裝環境
  • 大幅度降低能耗,減少熱量產生
  • AI/IoT 就緒
  • 透過在地生產與配送,確保全球可靠供應
  • 符合 CopyExactly! 要求!
  • 針對具體製程面臨的挑戰提供客製化專家支援
  • 採用半導體專用潤滑脂和密封件,防止意外排氣

精準實現重複性生產,同時採用 AI 即時監測

選擇我們的整合解決方案,讓您的流程持續穩定且具可重複性。 歸功於半導體專用密封件和潤滑脂,可以盡可能減少漏氣,實現所需的製程步驟。 無論是個別溫度控制、微米級定位,或是在原子層沉積(ALD)中精確的氣相週期控制,我們都為您開發量身打造的解決方案。

Festo 解決方案支援的應用範例:

  • 控制 Wafer Chuck 、製程腔或等離子產生器的溫度
  • 具力感測功能的頂針升降和微米定位
  • 原子層沉積 (ALD) 閥控制
  • 真空室的安全吹掃與再生
  • UHP 閥嚮導控制,以可靠調節製程氣體

優點一覽

Festo 對半導體製造商面臨的各種複雜挑戰瞭如指掌,致力於為其量身打造解決方案, 並採用紮實的實務專業知識及全球支援網絡為您提供協助。 Festo 專家隨時待命,在改善裝置功能、縮短停機時間方面為您提供支援。

Festo 是優秀的自動化合作夥伴:

  • 我們的技術和設備高度可靠,確保讓您的製程流程安全、穩定執行
  • 在緊急情況下快速因應,藉由先進技術分析原因,大幅降低風險
  • 採用氣動和電氣元件的技術開放式解決方案
  • 藉由企業內部全球準則,推行 CopyExactly! 標準
  • 擁有全球供應鏈,確保您的生產流程順暢進行