半導體行業的自動化

在短短 18 個月內,您目前建立的系統必須生產出比現在製造晶片複雜兩倍的晶片,但仍以相同的價格出售。這只能透過可靠且經濟實惠的自動化解決方案來實現。我們深知整個系統可用性對半導體和電子元件製造商有多重要。您需要哪些產品和服務?我們在全球為您服務。

應用:控制和調節冷卻回路

您面臨的挑戰:在半導體製造過程中可靠地調節冷卻液

Festo 的解決方案:

  • 閥島 VTUG 和 VTOC (1) 用於可靠地控制介質的氣控閥
  • CPX-MPA 型閥島 如果需要額外的 I/O,例如用來控制電控閥、整合感測器或建立閉環控制回路。此閥島還可用於執行診斷和遠端維護功能。
  • 氣控或電控 閥 VZXA、VZQA 和 VZWF (3) 控制介質流量。即使在閉環控制回路中,也能可靠、準確地調節非常冷和/或熱的介質。
  • 角行程驅動器 DFPD(4) 驱动 球閥 VZBF (5) 以及通常用於冷卻或溫度控制介質的主管線和進/出管線的大流量翻板閥。
  • SFAW (2) 和 SPAW (6) 型感測器 非常準確地測量介質流量以及溫度和壓力。

半導體行業產品

Festo 為製造電子元件的機器提供了廣泛的產品組合:具有整合安全功能的閥島 VTOC 或我們的比例調壓閥 VEAA/VEAB(用於對通常控制或調節流程氣體的介質閥進行嚮導控制)。

用於半導體製造的 Festo 解決方案

Gate Valve 門閥開關控制方案

應用領域:

半導體或光電產業之鍍膜的生產線過渡腔室 (load-lock chamber) / 移載系統 (handling system) / 製程腔體 (process chamber)

應用亮點:

  • 大幅降低門閥開關時所產生的衝擊力
  • 應用程式在單一元件中達成多門閥的控制
  • 藉由數位參數集達成高重複精度
  • 易於追蹤,非常適用於工業物聯網

訂製方案:

半導體行業 EFEM 晶圓傳送設備內,數字控制終端系統對 FOUP 載具填充惰性氣體的應用解決方案,能顯著有效降低閥門開關時產生的污染微粒。

N2 Purge 氮氣吹掃系統

應用領域:

適用於 STOCKER、FOUP、OHT和STB等各種晶圓輸送和儲存場合等需要微污染防治 (AMC Free) 的半導體晶片先進製程。

應用亮點:

  • 可透過流量控制與濕度檢測進行精密的溼度控制
  • 壓電閥設計達到精準的流量控制,每分鐘高達 200 公升
  • 簡化工程設計、調試和操作,整合化模組設計,即裝即用的解決方案
  • 可將多片 MFC 整合成閥島進行設置

訂製方案:

  • Festo 的氣體控制應用解決方案,可以降低晶圓氧化及保持乾燥狀態穩定 FOUP 內環境。
  • N2 Purge 吹淨系統中,通過各類感測器和流量控制器進行配合,並藉由壓電閥精準的比例式控制,達到準確的流量控制,且透過通訊實現數據蒐集與傳輸。
  • 此外,運用 Festo 數字控制終端的數位化氣動技術,除了可精準控制風刀在吹掃時的壓力/流量外,整合的智慧感測器可用於控制、診斷和自學任務,使得參數組合達到最佳配合。

Lift Pin Control 晶圓頂針升降控制方案

應用領域:

針對半導體設備中,用於控制 Lift Pin 的波紋管氣缸。

應用亮點:

實現氣動技術在運行的時間、速度、精度的精準控制與監測,並且達到 wafer 平穩、同步的上下運行,行程時間更穩定,減少機器意外停機。將 Lift Pin 調整標準化,取代以往的盲目調整,節省維修時間。

訂製方案:

  • 閉迴路方案:透過 VTEM 實現高階的氣動控制技術,包括時間、加減速度、及同步運行
  • 開迴路方案:使用 Festo 客製化解決方案,原有設備的軟硬體無須改動,即能實現無縫升級
  • 藉由壓電閥進行精確控制以縮短 Tack Time,提高生產率

Cylinder synchronization control 氣缸同步控制方案

特殊氣體供應和化學打磨氣體控制單元

應用領域:

半導體特殊氣體供應和化學打磨氣體控制單元,都是應用於半導體前段過程。

應用亮點:

無需動力源,仍能切斷氣體鋼瓶的氣體供應;採用特殊的或閥設計,使系統控制不中斷;熱插拔功能,無需關閉氣源即可更換電磁閥。

訂製方案:

  • 採用手動閥和邏輯閥訂製,具有多路控制的手動安全迴路,同時結構更加緊湊。
  • 特殊設計的手動蓄能氣體鋼瓶開關系統,既保留手動操作方式,又能在沒有任何動力源的條件下自主關閉氣體鋼瓶。
  • 簡易的訂製化氣缸驅動的紅色指示器,節約空間的同時保障操作安全。

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